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【半導體材料瓶頸重大突破　國際期刊按讚】二硫化鉬是繼石墨烯之後，備受國際科學家關注的層狀材料，單層的二硫化鉬具有良好發光效率，不僅反應快速，電晶體也較為穩定，可用於未來新型低耗能邏輯電路，極有可能取代目前使用的矽晶片，做為下一世代的主要核心元件。主導跨國研究計畫的前中研院研究員台籍科學家李連忠博士，在2012年就領先全球率先利用化學氣相沈積法製備出高品質二硫化鉬單層單晶，並為二硫化鉬及相關的無機二維材料電子學研究及應用，奠定了材料基礎...... 全文：http://goo.gl/QSrHPv #二硫化鉬 #MoS2 #半導體 #矽晶 #SCIENCE

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