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園慶41周年系列研討會第7場🌟-【光學微影如何邁進廿一個世代】
現今半導體產業之所以能快速發展，有很大一部分原因要歸功於光學微影技術(Optical… 更多 Lithography)，今天非常榮幸邀請到改寫半導體歷史的巨擘，也是光學微影技術的先驅者-中央研究院林本堅院士來為大家主講「光學微影如何邁進廿一個世代」議題，林院士擁有許多領先全球的發明與得獎記錄，也是國內最高學術殿堂首位企業界院士，當前全球半導體高階製程所用的浸潤式微影技術，便是來自於他的發明，2002年間研發出浸潤式微影讓台積電成功引領全球半導體業技術走向，得以推進製程至今。院士精闢演講為各位學員專業且仔細的介紹未來技術前瞻視野，及邁向21世代的光學走向將會遇到什麼挑戰和突破。
👉下一場https://reurl.cc/52EENR
講題【The journey of making impact using AI】
時間 : 110/11/11 (四) 13:30~16:30，共3小時
地點：科技生活館愛迪生廳
講師 : 孫民 博士 /Appier Inc.的首席AI科學家、國立清華大學 電機工程學系副教授
＃科學園區人才培訓計畫
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