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工業局助信紘開發模組,預期增加產值1.3億元! 在 #半導體製程 發展至5nm,對於製程參數掌控將會日趨嚴格,其中,「#乾式蝕刻」是半導體製造中常用的製程之一,是利用電漿解離蝕刻氣體的分子,形成高活性離子,再利用高活性離子去腐蝕不必要的材料,進而在晶圓上刻出想要的圖案來。
    
然而,乾蝕刻製程中最重要的靈魂就是 #蝕刻氣體,若這些氣體參雜了其他物質,將影響產品品質⚠… 更多,嚴重時甚至會造成產線停擺,就如同我們吃下肚子的食物,一定要嚴格掌握成份,不健康的物質吃下肚,是會讓人生病的。
    
工業局「📝#半導體設備產業推動計畫」,協助國內半導體模組廠商搭配晶圓廠,開發製程設備的關鍵模組,並成功導入晶圓廠產線。
    
#輔導案例
110年由金屬中心協助 #信紘科技 開發 #乾蝕刻特氣品質分析模組,直接在產線設備進行分析,不僅達到即時監控製程品質要求,同時更可取代原先以產品採樣送測判定製程品質的模式,通過晶圓廠測試取得訂單後,預期可增加產值1.3億元💰
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  • 林淑惠
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